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Productos

Polvo de alúmina calcinada con plaquetas


  • Estado del producto:Polvo blanco
  • Dureza:2100kg/mm2
  • Peso molecular:102
  • Punto de fusion:2010℃-2050℃
  • Punto de ebullición:2980℃
  • Agua soluble:Insoluble en agua
  • Densidad:3,0-3,2 g/cm3
  • Contenido:99,7%
  • Detalle del producto

    SOLICITUD

    El polvo de pulido de alúmina calcinada para placas está hecho de polvo de alúmina industrial de alta calidad como materia prima y se procesa mediante un proceso de producción especial.La forma del cristal del polvo de pulido de alúmina producido es hexagonal plana como forma tabular, por lo que se llama alúmina plaquetaria o alúmina tabular.

    La alúmina plaquetaria es un polvo abrasivo tipo alúmina de alta calidad, que consiste en un cristal en forma de placa de Al2O3 con una pureza superior al 99,0%.Tiene excelentes propiedades de resistencia al calor, además de ser químicamente inerte y no se corroe ni con ácidos ni con álcalis.Como la distribución del tamaño de las partículas de alúmina plaquetaria está estrictamente controlada, puede producir una superficie lapeada muy fina, lo que le confiere una eficacia superlativa como abrasivo.Con una enorme variedad de usos, la alúmina plaquetaria es un polvo abrasivo capaz de realizar una gran variedad de funciones.

    Polvo de alúmina tabular (1)111

    Polvo de alúmina tabular

    Polvo de alúmina tabular (1)

    Polvo de alúmina tabular

    Especificaciones estándar para el tamaño de partículas

     

    Partícula
    Tamaño

    Distribución de partículas (μm)

    Partícula máxima
    tamaño

    Tamaño de partícula
    en el punto 3%

    Tamaño de partícula
    al 50% punto

    Tamaño de partícula
    en el punto 94%

    45

    <82,9

    53,4± 3,2

    34,9± 2,3

    22,8± 1,8

    40

    <77,8

    41,8± 2,8

    29,7± 2,0

    19,0± 1,0

    35

    <64,0

    37,6± 2,2

    25,5± 1,7

    16,0± 1,0

    30

    <50,8

    30,2± 2,1

    20,8± 1,5

    14,5± 1,1

    25

    <40,3

    26,3± 1,9

    17,4± 1,3

    10,4± 0,8

    20

    <32,0

    22,5± 1,6

    14,2± 1,1

    9,00±0,80

    15

    <25,4

    16,0± 1,2

    10,2± 0,8

    6,30±0,50

    12

    <20,2

    12,8± 1,0

    8,20±0,60

    4,90±0,40

    9

    <16.0

    9,70±0,80

    6,40±0,50

    3,60±0,30

    5

    <12,7

    7,20±0,60

    4,70±0,40

    2,80±0,25

    3

    <10.1

    5,20±0,40

    3,10±0,30

    1,80±0,30

    Calidad estandar

     

    Tipo de producto

    Gravedad específica

     

    Al2O3

    SiO2

    Fe2O3

    Na2O

    3 µm-45 µm

    >3.90

    >99.0

    <0,20

    <0,10

    <1.00

     

    Ventajas del polvo de alúmina

    1. En comparación con otros polvos tabulares, el polvo de alúmina tabular tiene excelentes propiedades combinadas.Como alto punto de fusión, dureza fuerte, alta resistencia mecánica, buena resistencia al desgaste, resistencia química, resistencia a la oxidación y resistencia al calor, etc.

    2. La forma de hoja plana aumenta la fricción, mejora la velocidad y la eficiencia del rectificado, lo que puede reducir la cantidad de máquinas rectificadoras, la mano de obra y el tiempo de rectificado.

    3. La forma de la hoja plana hace que el objeto no se raye fácilmente, la tasa de productos calificados puede aumentar entre un 10% y un 15%.Por ejemplo, la tasa de oblea de silicio semiconductor calificada puede alcanzar el 96% o más.

    4. Tiene los efectos dobles de los nano y micro polvos, la actividad superficial es moderada, no solo puede combinarse eficazmente con otros grupos activos, sino que tampoco es fácil de aglomerar y facilitar una dispersión efectiva.

    5. Tiene buena adherencia, importante efecto protector y capacidad para reflejar la luz.

    6. El polvo de alúmina tabular es casi transparente, incoloro y tiene una superficie plana y lisa.Los cristales bien cristalizados son hexágonos regulares.

    7. El polvo de alúmina tabular se puede convertir en un excelente polvo de pulido.


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  • 1. Industria electrónica: rectificado y pulido de obleas semiconductoras de silicio monocristalino, cristales de cuarzo, semiconductores compuestos (galio cristalino, nano fosfatado).

    2. Industria del vidrio: molienda y procesamiento de cristal, vidrio de cuarzo, pantalla de vidrio para cinescopio, vidrio óptico, sustrato de vidrio para pantalla de cristal líquido (LCD) y cristal de cuarzo.

    3. Industria de recubrimientos: recubrimientos y cargas especiales para pulverización por plasma.

    4. Industria de procesamiento de metales y cerámica: materiales cerámicos de precisión, materias primas cerámicas sinterizadas, recubrimientos de alta temperatura y alta calidad, etc.

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